我们的产品
产品介绍
核心优势:
1.不含 Na⁺、K⁺、Ca²⁺等金属杂质，半导体、分子筛、医药合成无金属污染；
2.兼具亲油亲水，是高效相转移催化剂；
3.碱性温和可控，对硅基底腐蚀选择性强，不会过度蚀刻晶圆；
4.分解产物易挥发，无无机盐残留
详细说明报告：
1.四乙基氢氧化铵产品说明书.pdf应用领域
应用领域:
1. 半导体 / 显示行业（最大高端需求）
超净高纯电子级 TEAOH 是光刻核心湿电子化学品：
光刻胶显影液：溶解曝光后正性光刻胶，精准形成微米 / 纳米电路图案，
28nm 及成熟制程标配；
晶圆清洗 / 光刻胶剥离：去除硅片表面有机残留、光刻胶残渣；
硅选择性微蚀刻：用于 CIS 图像传感器、FinFET 结构精细刻蚀；
LCD/OLED 面板：聚酰亚胺取向膜制备，促进酰亚胺化，形成均匀液晶取向层。
2. 分子筛 / 催化材料合成
专用模板剂（结构导向剂）：制备 SSZ-13、SAPO-34、ZSM 系列沸石分子筛，用于汽车尾气脱硝、甲醇制烯烃催化剂载体，调控分子筛孔径结构。
